日立熒光分布成像系統
1. 可以測定樣品的光譜數據（反射光、熒光特性）
在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝樣品圖像，（區域：Φ20mm、空間分辨率：0.1 mm左右、波長范圍：360-700nm），同時利用的光譜算法，分別顯示熒光圖像和反射圖像, 根據圖像可獲得不同區域的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）

一、熒光分布成像系統（EEM View）簡介

       作為熒光分光光度計的配件系統，這是創將相機與熒光分光光度計的結合，融合了智能算法的技術。能夠同時獲取樣品圖像和光譜信息。
將它配置到熒光分光光度計中，改變了常規熒光光度計只能獲得樣品表面區域平均化信息的現狀，可以查看樣品圖像任意區域的光譜信息，十分適合涂料、材料、油墨、LED、化工等領域。

新型熒光分布成像系統可安裝到日立F-7000/71000熒光分光光度計的樣品倉內。入射光經過積分球漫反射后均勻照射到樣品，利用熒光光度計標配的熒光檢測器可以獲得樣品熒光光譜，積分球下方的CMOS相機可獲得樣品圖像，并利用*的AI光譜圖像處理算法，可以同時得到反射和熒光成分圖像。

    二、  熒光分布成像系統特點：

    1. 可以測定樣品的光譜數據（反射光、熒光特性）

在不同光源條件下（白光和單色光）拍攝樣品圖像，（區域：Φ20mm、空間分辨率：0.1 mm左右、波長范圍：360-700nm），同時利用的光譜算法，分別顯示熒光圖像和反射圖像, 根據圖像可獲得不同區域的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）

熒光分布成像系統軟件分析（EEM View Analysis）界面(樣品：LED電路板)

2.  樣品安裝簡單，適用于各種樣品測試

樣品只需擺放到積分球上，安裝十分簡單！

豐富的樣品支架

支持測量的校正工具

熒光分布成像系統是一種的技術，新型熒光分布成像系統可安裝到日立F-7000/71000熒光分光光度計的樣品倉內。入射光經過積分球漫反射后均勻照射到樣品，利用熒光光度計標配的熒光檢測器可以獲得樣品熒光光譜，積分球下方的CMOS相機可獲得樣品圖像，并利用*的AI光譜圖像處理算法，可以同時得到反射和熒光成分圖像。