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        日本filmetrics板厚測量系

        產品時間:2025-05-14

        訪問次數:900

        簡要描述:

        日本filmetrics板厚測量系統F3-sX
        可以高精度測量硅基板和玻璃基板的厚度。
        通過安裝初開發的具有高波長分辨率的光譜儀,可以測量高達 3 mm 的厚膜。
        憑借 10 μm 的小光斑直徑,可以測量粗糙和不均勻的薄膜。
        通過添加自動載物臺,可以輕松測量面內分布。

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        日本filmetrics板厚測量系統F3-sX

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        主要特點

         

        • 高精度測量硅基板和玻璃基板的厚度

        • 配備自主研發的高波長分辨率分光鏡!可測量高達 3 mm 的厚膜

        • 10 μm 的小光斑直徑可以測量粗糙和不均勻的薄膜。

        • 通過添加自動平臺輕松測量面內分布

        可以高精度測量硅基板和玻璃基板的厚度。
        通過安裝初開發的具有高波長分辨率的光譜儀,可以測量高達 3 mm 的厚膜。
        憑借 10 μm 的小光斑直徑,可以測量粗糙和不均勻的薄膜。
        通過添加自動載物臺,可以輕松測量面內分布。

        主要應用

        半導體平板顯示器
        硅基板、LT基板、Ti基板等的厚度測量
        測量玻璃基板厚度和氣隙

        產品陣容

        模型F3-s980F3-s1310F3-s1550測量波長范圍

        膜厚測量范圍
        (Si 基板)

        膜厚測量范圍
        (玻璃基板)測量光斑直徑



        960 – 1000nm1280 – 1340nm1520 – 1580nm
        4 微米 – 350 微米7 微米 – 1 毫米10 微米 – 1.3 毫米
        10 微米 – 1 毫米15 微米 – 2 毫米25 微米 – 3 毫米
        ± 0.4% 薄膜厚度
        10微米

        *取決于樣品和測量條件


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